Příprava tenkých vrstev feromagnetických silicidů a germanidů manganu

Reaktivní laserovou ablací Mn terče za přítomnosti několika Pa reaktivního plynu (SiH₄ či GeH₄) byly připraveny silicidy a germanidy manganu. Připravované vrstvy jsou převážně amorfní, ale při následném žíhání na 600 °C (silicidy) či na 350 °C (germanidy) dochází ke krystalizaci a vzniku nanokrystalitů. V závislosti na podmínkách přípravy, především tlaku plynného prekurzoru a teplotě žíhání, lze připravit různé krystalické fáze silicidů (SiMn, Mn₄Si₇, Mn₅Si₃, Mn₅Si₂) a germanidů (GeMn a Mn₅Ge₃). S postupující krystalizací jsou u těchto materiálů pozorované rostoucí feromagnetické vlastnosti.